中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机

2004 年，罗先刚回到了他读书的中科院光电技术研究所，开始担任研究员。20 余年的光电学术之路上，他不仅发表了 SCI 收录论文 100 余篇，还带出了数十名优秀的硕士博士生。

项目副总师胡松也是中科院光电技术研究所的研究员、中国科学院大学博导，在光学投影曝光微纳加工技术、 微细加工光刻技术有丰富的经验，享受国务院政府津贴，曾主持多个国家级、部委级、省级科研项目，发表十余项专利技术。

中科院光电所完成这项计划用了 7 年。

根据经济日报报道，2012 年，中科院光电所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，当时并没有任何国外成熟经验可借鉴。

7 年来，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用 365 纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到 22 纳米(约1/17 曝光波长)。

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了 10 纳米以下特征尺寸图形的加工。

另外，这个项目还发表了论文 68 篇，申请国家发明专利 92 项，其中授权 47 项，申请国际专利 8 项，授权 4 项，为国家培养了一支超分辨光刻技术和装备研发团队。

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（编辑：网站开发网_安阳站长网）

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