中国芯片制造迈出一大步!中科院造出最强紫外超分辨光刻机
发布时间:2018-12-04 12:41:46 所属栏目:移动 来源:问耕 乾明 郭一璞 晓查
导读:副标题#e# 我国在芯片制造领域取得新突破! 经过近七年艰苦攻关,超分辨光刻装备研制项目通过验收。这意味着,现在中国有了世界上首台分辨力最高的紫外(即 22 纳米@365 纳米)超分辨光刻装备。 换句话说,我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。 光刻机
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中科院光电所的 7 年探索
这台光刻机背后的研究机构是中科院光电所。 带头完成这项研发任务的,是中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家、中国科学院大学教授&博导罗先刚研究员。
罗先刚在光电领域的学术地位从他的一长串 title 中可见一斑: 微细加工光学技术国家重点实验室主任,国家 973 计划首席科学家,曾获 2016 年度国家技术发明一等奖,,2017 年中国工程院院士增选有效候选人,国家杰出青年科学基金获得者,中组部首批万人计划科技领军人才、2009 年“新世纪百千万人才工程”国家级人选,2004 年中科院“百人计划”入选者,中国光学学会、美国光学学会、国际光学工程学会、国际光电子与激光工程学会四大学会成员(Fellow)。 从 1995 年在中科院光电技术研究所读硕士开始,罗先刚已经从事光电领域 20 余年了,在中科院光电技术研究所读完硕士和博士后,他去了日本理化学研究所做博士后和研究科学家。 (编辑:网站开发网_安阳站长网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |
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